Neue Nano-Technologie wird Chipherstellung revolutionieren
IBM-Forschern ist ein Durchbruch auf dem Gebiet der Elektronenstrahl-Lithographie gelungen. Sie entwickelten eine neue Technologie, mit der es möglich ist, 3-D Reliefs mit einer Auflösung von 15 Nanometern herzustellen.
Dabei schmilzt eine computergesteuerte, 500 Nanometer lange Silizium-Spitze einzelne Moleküle aus einem speziell entwickelten Polymermaterial heraus. Temperatur und Druck sind regulierbar, so dass die Spitze auf Grundlage von Computerdaten die dreidimensionalen Objekte einbrennen kann.
Die Wissenschaftler stellten auf diese Weise in zwei Minuten eine Weltkarte mit einer Auflösung von 500.000 Pixel her, die die Größe eines tausendstel Reiskorns besitzt. Diese Methode wird neue Entwicklungen auf den Gebieten der Medizin, Optik und Halbleiterelektronik revolutionieren.
